多次表示反对芯片制裁，这家公司不顾出口管制措施继续和中国合作
出口管制措施的限制范围非常之广，无论是技术、设备、产品甚至研发人才都在具体细则内，其中将不少半导体制造设备和相关项也加进了《商业管制清单》，这其中当然会涉及到大家耳熟能详的半导体核心设备光刻机。然而近日的一则关于ASML公司的对此作了明确回应。
继续为中国提供DUV光刻机
目前就全球而言，提供半导体光刻机的主要是ASML、Nikon以及Canon这三家，它们占有整个市场份额超过九成，因此主要的光刻机设备也就是这三家公司来提供。正如名声在外，ASML一家公司直接技术垄断了第5代EUV光刻机，也就是几乎所有的先进制程都要依赖这台光刻机。
当BIS发布出口管制措施细则的时候，ASML表示正在评估关于出口管制措施对自己光刻机销售的影响。而当时业内几乎都认为中国的光刻机要断供。近日，ASML发布了今年第三季度的财报，同时也表达了对于中国出口光刻机的态度。
今年第三季度ASML净销售额为58亿欧元（约为411.22亿人民币），其中毛利率为51.8%，净收入为17亿欧元（约为120.53亿人民币），第三季度的净增订单预订金额达到破纪录的89亿欧元（约为631.01亿元人民币）。
上述的数据是基于80台新的光刻和6台二手光刻机，这其中的12台是EUV其余的74台均为DUV光刻机，无论是从价格还是出货量，都可以看出光刻机的重要地位。
尽管半导体行业细分市场的需求动态存在分化，但是ASML的整体市场需求依然非常强劲。ASML的CFO Roger·Dassen同时也表示，DUV光刻机的内部并没有包含多少来自美国的组件，即使包含一些也不影响继续向中国的客户销售DUV光刻机，起码未来一年的出货不会受到任何影响。
此消息一出不由得让国内半导体行业松了一口气，因为之前业内普遍传言DUV光刻机也要被《商业管制清单》限制，会给国内半导体产业的发展带来较大的冲击。ASML的表态无疑打消了业内的这个担忧，而且ASML方面的负责人曾多次在公开场合表示反对芯片制裁。
DUV光刻机和EUV光刻机
光刻机的作用就是在芯片生产过程中的光刻阶段将电路结构印制到硅晶片上。DUV即为深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV即为极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。
DUV和EUV在技术的上区别主要是两个：1）其二者发光源不同，前者主要是准分子激光，波长更长，而后者则是激发后的等离子光子，波长更短；2）光路系统的差异，前者利用的是光的折射，后者则是光的反射，且必须在真空中进行。
ASML的NXT:2000i型号DUV光刻机
这会导致两者的制程工艺有了较大差别，DUV可以满足大于10nm的制程工艺，而10nm以内则还是要靠EUV。目前大多数的数字芯片和几乎所有模拟芯片都能被前者的工艺所覆盖，更先进的制程工艺则非EUV不可。DUV的价格通常在几千万美金，而EUV则几亿美金也未必能买到。
ASML和美国的渊源
EUV技术最开始源于Intel和美国官方牵头成立的EUV LLC联盟。Intel公司自不必多说，这个EUV LLC联盟是当时官方牵头汇集了全球半导体顶级研究者和业内资源来研究光刻技术的联盟，其中包括美国的3大国家实验室以及AMD、IBM、ASML等科技巨头。
ASML是一家总部位于荷兰的半导体设备制造商，当年进入EUV LLC联盟的时候对美国做出了非常大的妥协，比如在美国建立工厂和研发中心以及使用美国组件等等，因为美国不会让这样的尖端技术走向不受自己控制的方向。
后来ASML陆续收购美国的睿初公司（Brion）、Cymer公司等光刻企业逐步积累完善了光刻、电子束、光源等技术储备并走向全球半导体设备商领头羊的位置。
但是随着Intel入股ASML，美国亦开始逐步加快对ASML公司资本和技术的双向控制。十年前，三星和台积电一起购入23%的股权获得ASML光刻机的优先供货权，自此，这些半导体制造业大公司都强强绑定到了一起。
ASML的EUV光刻设备有超过九成的部件均为外部进口，而根据之前ASML加入EUV LLC联盟做出的承诺，其中美国的部件占比必须要超过55%占据绝对主导权，而且ASML公司的三大股东均来自美国，因此作为荷兰ASML公司的EUV光刻机，其实际主导权力者是美国而不是荷兰。
结尾
2018年4月份，中芯国际向ASML下单了一台型号为NXE:3400C的EUV光刻机，当时价值高达1.2亿美金左右，预计的是第二年交付，但是因为美国没有提供给荷兰许可证导致一直未交付给中芯国际。
型号为NXE:3400C的EUV光刻机
说到国产的光刻机就不得不提及上海微电子的90nm光刻机，这也是目前中国自主研制的最先进制程的光刻机。90nm光刻机可以经过多次曝光来实现更小制程的工艺，但是随之而来的问题是良品率大幅降低，目前国产光刻机极限能产出28nm的芯片。虽然和国际上目前的4nm~7nm还存在数量级上的差距，但是相比之前的进步已经是不容小觑了。
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